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风淋室洁净技术在产品研制与开发方面主要应用
资料来源:广州启绿空气净化设备有限公司   日期:2012-12-17   人气:   标签:风淋室 洁净风淋室 风淋室应用
     风淋室洁净技术在产品研制与开发方面主要应用, 各种降低能耗,配合工艺过程自动化与高洁净度要求的洁净室气流组织方案及技术在此阶段也陆续诞生,如隧道式洁净室(tunnel type cleanroom)、洁净管道(duct type cleanroom)以及SMIF(standard mechanical interface—标准机械接口)技术,198取得1年,由四机部十一院、河北工学院、天津第二无线电专用设备厂研制成功WGP—01型无隔板高效空气过滤器(mini pleat HEPA filter),填补了国内产品空白。标志着风淋通道,货淋室应用空气发展技术的突破性取得了重要的胜利! 

  1985年,四机部十一院、四川造纸工业研究所、重庆无线电专用设备厂共同完成了CGB型高效空气过滤器的研制,该过滤器对0.1μm尘粒的计数效率为99.99~99.995%,阻力为245~270Pa,经鉴定认为其主要技术指标达到当时日本生产的ULPA高效空气过滤器同类产品的技术水平。

   同期,国外洁净室技术持续、稳定发展与进步。
  1982年每芯片上约有5~6万个器件的16K位随机存储器(RAM)已成畅销品。1984年256K位RAM已进入实用阶段。同年初日本宣布每芯片设置有约200万个器件的一兆位DRAM(Dynamic Random Access Memory—动态随机存取存储器)试制成功。1985年美国研制完成4兆位的集成电路。至八十年代末4M位的DRAM已商品化。

   从八十年代中期以来,以于微电子行业来说,1976年4月24日所颁发的美国联邦标准209B所规定的最高洁净级别—100级(≥0.5μm,≯100pc./cu.ft)已不能满足需要,1M位的DRAM的线宽仅为1μm,要求环境级别为10级(0.5μm)。事实上,从七十年代末,配合微电子技术的发展,更高级别的洁净室. 已在美、日陆续建成,相应的检测仪器—激光粒子计数器、凝聚核粒子计数器(CNC)—也应运而生。总结这个时期的经验和适应技术进步的需要,于是1987年10月27日颁发美国联邦标准209C,将洁净等级从原有的100至100,000四个等级扩展为1至100,000六个级别,并将鉴别级别界限的粒径从0.5μm~5μm扩展至0.1μm~5μm.

     1987年1月,天津医药净化设备厂和建研院空调所研制的、采用国外ULPA过滤器(日本忍足株式会社产品)的0.1μm10级洁净室通过鉴定。1988年5月机电部第十一设计院和重庆无线电专用设备厂采用国产0.1μm高效空气过滤器的0.1μm10级洁净室通过鉴定,其主要   指标达到八十年代国外的技术水平。


  1979年至1981年,天津大学、天津美纶纤维厂等单位通过对多种材质(涤纶、丙纶、维纶、棉、毛、超细玻纤……)、多种工艺针刺、喷胶、热熔、熔喷、热压、罗拉)的几百个品种、规格滤料系列研究,筛选并设计定型了TL—Z、TL—C系列具有线径梯度、密度梯度和材质、工艺复合型的无织布滤材,部分替代了当时美、法、日等国引进的从粗效至亚高效过滤材料,为国家节约了大批外汇。
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